研究施設・設備等

タンデム加速器

設備・装置

日新ハイボルテージ社製のタンデム型イオン加速器で最大加速電圧は150万ボルト。平成4年度に文部省の私立大学研究設備助成を得て導入されました。半導体をはじめとする、固体材料へ不純物イオンを導入する(イオン打ち込み)実験に用いられています。

性能

加速電圧

0.5~1.5MV

加速イオン

H, He, B~Au

最大イオンエネルギー

6MeV

最大イオン電流

150μA
タンデム加速器

タンデム加速器ビームライン

注入用ライン

  • 試料サイズは最大6インチ。
  • 室温、昇温、低温注入が可能です。
タンデム加速器ビームライン

タンデム加速器制御盤と計測装置