その他の設備

膜厚測定器、簡易クリーンルーム、段差測定器、原子間力顕微鏡、顕微レーザーラマン兼PL測定装置、赤外線分光装置(FTIR)などがあります。

実験試料の洗浄、フォトリソグラフィーによる加工などに使用されています。

半導体表面上に形成した薄膜の厚みや屈折率の測定に使用されています。

表面に作製した構造の段差測定に使用されています。