顕微ラマン・PL測定装置 ( HORIBA LabRAM HR Evolution )、レーザー光源325, 532 nm, 低温測定ユニット
試料からの発光や分子結合に関する情報を得るために使用されています。
露光装置 ( ミカサ MA-20 )
フォトリソグラフィーによる加工などに使用されています。
段差計 ( KLA-Tencor Alpha-step )
表面に作成した構造の段差測定に利用されています。
原子間力顕微鏡（SⅡ SPI-3800N + SPA400）
試料表面のナノ構造分析や荒さ測定等に利用されています。
真空蒸着装置（電子ビーム蒸着、抵抗加熱蒸着）
各種金属の蒸着に利用されています。
赤外線分光装置（島津 FTIR-8400S）
クリーンルーム
実験試料の洗浄、フォトリソグラフィーによる加工などに使用されています。
その他半導体製造装置（マイクロ・ナノテクノロジー研究センター、クリーンルーム）
別建屋の研究センター内にある装置も利用可能です。
