装置一覧

顕微ラマン分光装置は、試料にレーザー光を照射して、発生したラマン散乱光から固体や分子の振動状態を観測することにより、微小領域の物質の種類や構造、電子状態を調べる装置です。レーザーを走査して多点分析を行うことにより、組成の空間分布のイメージングが可能です。

光合成電子伝達反応解析システムは、光合成色素に由来する蛍光変化や電子伝達成分に特有な波長の光の吸収変化を追跡することで、光合成装置の様々な構成成分の電子伝達活性を非破壊的に解析・評価することができる優れた装置です。

SQUID（超伝導量子干渉素子）磁束計は、超伝導体に特有のジョゼフソン効果を利用した高感度磁束計です。様々なナノマテリアルについて磁気モーメントの温度依存性を高感度で自動測定し、特性評価を行います。

カーボンナノチューブ合成装置は、エタノール等、炭化水素系のガスを利用し化学気相成長法という手法により様々な基板上に単層カーボンナノチューブ薄膜を成長させるための装置です。

走査型プローブ顕微鏡は、室温大気雰囲気下で、ナノマテリアルの試料表面形態の観察を原子レベルで行うための装置です。試料の表面を非常に細い針で走査し，ナノメートルスケールで試料表面の立体像を得ることができます。表面を観察する際、微少な電流(トンネル電流)を利用する走査型トンネル顕微鏡(STM)、原子間力を利用する原子間力顕微鏡(AFM)から構成されています。

単結晶Ｘ線構造解析装置は、本装置は、単結晶試料の結晶構造を調べるための装置です。試料吹付低温装置が設置されており、広い温度範囲でナノ結晶の原子座標を決定することができます。

ボールオンディスク式摩擦摩耗試験機：回転させた板状試料の上にボールを接触させ、試料とボールの間に生じる摩擦力を荷重センサーで計測します。この時の摩擦力の変化で、板状試料表面の保護膜が破壊する様子をモニターすることができます。

電子スピン共鳴装置：JES-FA300型（日本電子）は、磁場の中に置かれた不対電子が特定の周波数の電磁波を吸収する現象を利用して、化合物内の不対電子をとりまく環境を探ることができます。常磁性共鳴とも呼ばれます。

また、フリーラジカルをもつ生体高分子や常磁性遷移金属をもつ蛋白質などの局部の構造や電子状態の研究に用いられます。

ストップドフロー・ラピッドスキャン分光測定装置は、異種溶液の混合後の化学反応を、高速分光測光装置により、ミリ秒～秒の時間スケールで追跡したり、混合後のスペクトル変化を迅速に繰り返し測定できる装置です。

酵素反応やヘム蛋白質とリガンドとの反応の速度論的解析や、反応中間体の検出などの研究に用いられます。

高速液体クロマトグラフィー：?KTAPurifier（アマーシャム）は、幾つかの成分からなる蛋白質などの生体高分子試料を、分子の電荷や分子量などの性質の違いで速やかに分離・精製することができます。

また、 生体から抽出したり遺伝子から合成した蛋白質試料から、目的の蛋白質成分を分離し、精製するのに役立ちます。

ワークステーション：Fuel WF-60V10-1036（シリコングラフィクス）は、高速のグラフィクス機能を駆使して、遺伝子の系統解析、遺伝子の設計、蛋白質などの高分子の構造・揺らぎのシミュレーション、分子設計などができます。

また、蛋白質分子進化の系統解析、祖先型蛋白質の遺伝子設計、人工蛋白質の構造解析などに役立っています。

円偏光二色性装置：円偏光二色性分散計J-820（日本分光）は、円偏光二色性や旋光分散の現象を利用して、光学活性（偏光面を回転させる作用）をもつ物質の局所構造を探ることができます。

また、蛋白質などの生体高分子の局所の構造の研究に利用しています。

生体分子精製用液体クロマトグラフィーシステム：KTAexplorer（GE ヘルスケア）は、蛋白質など生体分子を自動で分離・分析するための高速液体クロマトグラフィー装置。

また、特定の蛋白質の分離精製，精製したタンパク質の会合状態の解析などに用いられています。

生体分子画像解析装置：バリアブルイメージアナライザー Typhoon（GE ヘルスケア）は、マイクロアレイ解析から二次元電気泳動解析まで，幅広いアプリケーションをカバーすることができる画像解析システム．

また、突然変異や培養条件の違いなどによって，細胞内に存在する蛋白質が量的・質的にどのように変化するかの解析などに用いられています．

微細加工ドライエッチング装置は、誘導結合プラズマ源をもちいた超微細加工可能なドライエッチング装置です。湿式エッチングでは削ることが困難なSiC（炭化シリコン）基板やGaN（窒化ガリウム）基板のエッチングに用いています。

多層金属膜蒸着装置は、白金、チタン、ニッケルなどの金属を連続して基板に蒸着する装置です。半導体デバイスの電極を形成するために欠かせない装置です。

熱処理炉は、半導体中に添加した不純物を活性化するために用いる熱処理炉です。SiC基板に酸化膜を形成するなどいろいろな目的で使用するため、数多くの石英管炉が必要です。

分子線ビームエピタキシャル装置は、超高真空中で、ガリウム、リン、アルミニウムなどを分子状にして基板に堆積させて結晶を作る装置です。

ボンディング装置は、試作した半導体デバイスをパッケージに組み立てるときに電極を配線する装置です。

マスクアライナーは、電子線描画装置と同様に微細なパターンを形成させる装置です。１ミクロン程度のパターンが形成できます。

メタライゼーション装置は、電極を製造する装置です。

表面粗さ解析装置AFM（AFM:Atomic Force Microscope）は、ナノメートル単位で表面の凹凸が測定できる顕微鏡です。

レーザー顕微鏡は、レーザーを光源として用い、小さく絞ったレーザー光スポットで測定試料を走査しながら基板に照射し、透過光もしくは散乱光の強度を検出することによって、光学顕微鏡像を得る装置です。表面の凹凸、パターンの寸法測定に用います。

高周波測定用プローバーは、半導体デバイスの高周波測定をウェハの状態で測定できます。